AF-G40 es un sistema de plasma atmosférico de sobremesa con plataforma rotativa, diseñado para el procesamiento estable de componentes circulares. La rotación continua garantiza una exposición constante al plasma y resultados de tratamiento uniformes en toda la superficie.
| Tensión de entrada | AC220 V |
| Potencia de salida | 1.5KW |
| Altura de procesamiento | 8-12 mm |
| Ancho de procesamiento | 300 mm |
| Dimensiones (L*An*Al) | 450*400*620mm |
| Gas utilizado | Aire, N2 (opcional) |
| Velocidad de transmisión | 9-10 m/min |
El gas de proceso se energiza y se convierte en un plasma reactivo que contiene iones, electrones y radicales.
Las especies de plasma energéticas interactúan con las moléculas de la superficie y los contaminantes en condiciones de vacío controladas.
Los iones y radicales reactivos descomponen los residuos orgánicos y los contaminantes de la superficie mediante reacciones químicas controladas.
Los productos de la reacción se convierten en compuestos volátiles y pasan a la fase gaseosa.
Los subproductos gaseosos se desorben de la superficie y se evacuan, dejando una superficie de material limpia y activada.
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Rogatus ad ultimum admissusque in consistorium ambage nulla praegressa inconsiderate
