El GM-2000 es un sistema de tratamiento por plasma atmosférico a baja temperatura diseñado para el procesamiento de materiales como plásticos, metales, vidrio y componentes electrónicos antes de procesos de recubrimiento, impresión o ensamblaje.
| Nombre del Producto | Sistema de procesamiento por plasma a baja temperatura |
| Modelo | GM-2000 |
| Fuente de Alimentación | CA 220V, 50/60 Hz |
| Potencia | 1000 W (ajustable) |
| Frecuencia | 18–25 kHz |
| Tamaño de la Unidad Principal | 380 × 280 × 280 mm |
| Modelo de Pistola | DV1 |
| Cantidad de Boquillas | 1 |
| Ancho de Tratamiento de la Boquilla | 3–5 mm, 7–13 mm, 15–18 mm (opcional) |
| Conectividad en Línea | Se puede integrar con equipos en sitio |
| Altura de Tratamiento (Distancia de Trabajo) | 5–15 mm (recomendado 10 ±2 mm) |
| Longitud del Cable | 2 m (extensible) |
| Gases Compatibles | N2, CDA |
| Peso de la Boquilla | 1.5 kg |
| Presión de Aire | 2–2.5 kgf/cm² |
| Peso Total | 20 kg |
El gas de proceso se energiza y se convierte en un plasma reactivo que contiene iones, electrones y radicales.
Las especies de plasma energéticas interactúan con las moléculas de la superficie y los contaminantes bajo condiciones de vacío controladas.
Los iones y radicales reactivos descomponen los residuos orgánicos y los contaminantes de la superficie mediante reacciones químicas controladas.
Los productos de la reacción se convierten en compuestos volátiles y pasan a la fase gaseosa.
Los subproductos gaseosos se desorben de la superficie y se evacuan, dejando una superficie de material limpia y activada.
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Rogatus ad ultimum admissusque in consistorium ambage nulla praegressa inconsiderate
