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Limpiadores de Plasma

Limpieza de Superficies con Plasma de Vacío de Laboratorio

El GD-10 es un sistema compacto de limpieza con plasma de vacío de laboratorio con control PLC de pantalla táctil, canales de gas duales y un diseño de electrodo uniforme. Es adecuado para entornos de investigación de laboratorio y producción de lotes pequeños que requieren condiciones de procesamiento estables y repetibles.

Limpieza de precisión con distribución uniforme de plasma
PLC + pantalla táctil: operación y mantenimiento simples
Cámara personalizable y control de flujo de gas dual

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Especificaciones Técnicas

Nombre del Producto	Limpiador de Plasma de Vacío
Modelo	GD-10
Sistema de Control	PLC + Pantalla Táctil
Frecuencia de Potencia	40 kHz
Voltaje de Alimentación	CA 220V (±10V)
Potencia	300 W (ajustable)
Canales de Gas	2 canales con medidores de flujo flotante
Control de Proceso	Modos automático y manual
Dimensiones Internas de la Cámara (mm)	200 × 250 × 200 (An × Pr × Al), acero inoxidable
Capacidad del Portador	175 × 185 (An × Pr), 3 niveles
Dimensiones Externas (mm)	600 × 560 × 400 (L × Pr × Al)
Volumen de la Cámara	10 L
Nivel de Vacío	10–30 Pa
Gases Compatibles	Argón, Oxígeno, Nitrógeno, Aire, H2+N2 (mezclado), etc.

Características Clave

Control Táctil PLC Amigable

PLC integrado con una pantalla táctil receptiva simplifica la operación, gestión de recetas y mantenimiento, permitiendo procesos repetibles y ajustes rápidos para laboratorio o pequeñas producciones.
Control de Precisión de Flujo de Gas Dual

Dos canales de gas independientes con control de flujo flotante permiten una mezcla precisa para diferentes químicas de proceso, mejorando la repetibilidad y habilitando una amplia gama de aplicaciones de procesamiento de materiales.
Diseño Uniforme de Electrodo de Plasma

Una estructura de electrodo especialmente diseñada proporciona plasma uniforme en toda la cámara, asegurando un rendimiento consistente de procesamiento y limpieza para múltiples piezas y configuraciones de carga en capas.
Huella de Laboratorio Compacta

Las dimensiones externas pequeñas y una cámara de 10 L hacen que la unidad sea ideal para mesas de laboratorio y líneas de producción a pequeña escala, mientras que aún admite portadores multicapa para rendimiento.
Modos de Potencia y Proceso Ajustables

La salida de potencia ajustable de 300 W y los modos de control de proceso automático y manual brindan flexibilidad para optimizar la intensidad del tratamiento y los tiempos de ciclo para materiales sensibles.
Amplia Compatibilidad de Gases

Admite gases de proceso comunes como argón, oxígeno, nitrógeno, aire y mezclas de H2/N2, lo que permite aplicaciones que van desde la limpieza hasta el procesamiento controlado de materiales para diversos sustratos.

Proceso de Limpieza por Plasma

Generación de Plasma

El gas de proceso se energiza y se convierte en un plasma reactivo que contiene iones, electrones y radicales.
Interacción Plasma–Superficie

Las especies de plasma energéticas interactúan con las moléculas de la superficie y los contaminantes bajo condiciones de vacío controladas.
Reacción Química

Los iones y radicales reactivos descomponen los residuos orgánicos y los contaminantes de la superficie mediante reacciones químicas controladas.
Volatilización

Los productos de la reacción se convierten en compuestos volátiles y pasan a la fase gaseosa.
Eliminación de la Superficie

Los subproductos gaseosos se desorben de la superficie y se evacuan, dejando una superficie de material limpia y activada.