Limpiador de Plasma al Vacío Compacto | Fari Plasma

Limpiadores de Plasma

Limpieza de Superficies con Plasma al Vacío Compacto

Limpiador de plasma al vacío compacto con control PLC y pantalla táctil, cámara de acero inoxidable 316 y aluminio importado, canales de gas de doble precisión y generador ajustable de 300 W, ideal para producción en lotes pequeños y uso en laboratorio.

  • Limpieza de precisión para lotes pequeños
  • PLC + pantalla táctil: operación sencilla
  • Cámara personalizable de acero inoxidable 316 y aluminio

Especificaciones Técnicas

Nombre del Producto Limpiador de Plasma al Vacío
Modelo GD-5
Sistema de Control PLC + Pantalla Táctil
Frecuencia de Plasma 40 kHz / 13.56 MHz
Fuente de Alimentación CA 220 V (±10 V)
Potencia del Generador 300 W (ajustable)
Líneas de Gas Control de flujo de 2 canales con flotador
Control de Proceso Automático / Manual
Tamaño Interior de la Cámara Φ150 × 280 mm
Área de Carga 120 × 230 mm (An × L)
Dimensiones Externas 560 × 550 × 400 mm (L × P × A)
Volumen de la Cámara 5 L
Nivel de Vacío 10–30 Pa
Gases Compatibles Argón, Oxígeno, Nitrógeno, Aire, H2+N2 (mezcla)

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Características Clave

  • Diseño Compacto de Cámara de Vacío

    Cámara de 5 L fabricada en acero inoxidable 316 y aleación de aluminio importada que proporciona resistencia a la corrosión y puede personalizarse para adaptarse a diversos tamaños de muestras en producción de lotes pequeños y laboratorio.

  • Controles PLC y Pantalla Táctil

    PLC integrado con interfaz de pantalla táctil intuitiva que permite almacenar recetas, control de proceso automático o manual y mantenimiento simplificado para tratamientos de plasma repetibles en producción e I+D.

  • Canales de Control de Flujo de Gas Dual

    Dos canales de gas de precisión con válvulas de aguja y medidores de flujo importados permiten un control preciso de Argón, Oxígeno, Nitrógeno, aire o mezclas de H2/N2, lo que permite un procesamiento de plasma y un rendimiento de limpieza personalizados.

  • Potencia de Plasma Ajustable

    Un generador de plasma ajustable de 300 W que opera a 40 kHz o 13.56 MHz proporciona potencia controlable para equilibrar la activación suave en sustratos sensibles o una limpieza más fuerte para contaminantes difíciles.

  • Estructura de Electrodo de Plasma Uniforme

    La geometría única del electrodo garantiza una distribución homogénea del plasma en el sustrato, mejorando la uniformidad del tratamiento y asegurando una consistencia de proceso estable entre lotes, y reduciendo la variación del proceso entre lotes.

  • Versátil para Múltiples Aplicaciones Industriales

    Diseñado para plásticos, semiconductores, dispositivos médicos, embalajes y componentes automotrices, el GD-5 admite pretratamiento, limpieza, esterilización y promoción de adhesión en diversos materiales y procesos.

Proceso de Limpieza por Plasma

  • Generación de Plasma

    El gas de proceso se energiza y se convierte en un plasma reactivo que contiene iones, electrones y radicales.

  • Interacción Plasma–Superficie

    Las especies de plasma energéticas interactúan con las moléculas de la superficie y los contaminantes bajo condiciones de vacío controladas.

  • Reacción Química

    Los iones y radicales reactivos descomponen los residuos orgánicos y los contaminantes de la superficie mediante reacciones químicas controladas.

  • Volatilización

    Los productos de la reacción se convierten en compuestos volátiles y entran en la fase gaseosa.

  • Eliminación de la Superficie

    Los subproductos gaseosos se desorben de la superficie y se evacuan, dejando una superficie de material limpia y activada.