Sistema de limpieza por plasma de vacío de alta estabilidad con potencia ajustable de 2000 W y operación de doble frecuencia (40 kHz / 13.56 MHz), que cuenta con una cámara personalizable, control por pantalla táctil PLC y soporte para múltiples gases para producción industrial continua.
| Nombre del Producto | Limpiador de Plasma de Vacío |
| Modelo | GD-30 |
| Sistema de Control | PLC + Pantalla Táctil |
| Frecuencia de Potencia | 40 kHz / 13.56 MHz |
| Tensión de Alimentación | CA 380V (±10V) |
| Potencia Nominal | 2000 W (ajustable) |
| Líneas de Gas | Control de flujo con válvula proporcional de 2 canales |
| Control de Proceso | Modos automático y manual |
| Tamaño Interno de la Cámara | 350 × 320 × 320 mm |
| Material de la Cámara | Acero inoxidable o Aluminio (opcional) |
| Capacidad del Portador | W300 × D265 mm, 5 capas |
| Dimensiones Totales (L×A×H) | 870 × 740 × 1540 mm |
| Volumen de la Cámara | 30 L |
| Nivel de Vacío | 30 Pa |
| Gases Soportados | Ar, O2, N2, Aire, H2+N2 (gas mixto) |
El gas de proceso se energiza y se convierte en un plasma reactivo que contiene iones, electrones y radicales.
Las especies de plasma energéticas interactúan con las moléculas de la superficie y los contaminantes bajo condiciones de vacío controladas.
Los iones y radicales reactivos descomponen los residuos orgánicos y los contaminantes superficiales mediante reacciones químicas controladas.
Los productos de la reacción se convierten en compuestos volátiles y pasan a la fase gaseosa.
Los subproductos gaseosos se desorben de la superficie y se evacuan, dejando una superficie de material limpia y activada.
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Rogatus ad ultimum admissusque in consistorium ambage nulla praegressa inconsiderate
