Un sistema compacto de plasma al vacío rotatorio con una cámara giratoria de 360° para el procesamiento uniforme de polvos, partículas y componentes irregulares en entornos de vacío controlados.
| Nombre del Producto | Limpiador de Plasma al Vacío con Tambor Rotatorio |
| Modelo | RD-10 |
| Sistema de Control | PLC + Pantalla Táctil |
| Frecuencia de Potencia del Plasma | 13.56 MHz |
| Fuente de Alimentación | CA 220V (±10V) |
| Potencia del Generador de Plasma | 100 W (ajustable) |
| Líneas de Gas | 2 canales de gas con rotámetros |
| Control de Proceso | Modos Automático y Manual |
| Tamaño de la Cámara (mm) | Ø210 × 310 mm |
| Tamaño de la Cámara de Reacción al Vacío (mm) | Ø160 × 230 mm |
| Dimensiones Generales (mm) | 700 × 640 × 475 (L × A × Al) |
| Volumen de Reacción | 5 L |
| Rango de Velocidad del Motor | 1–30 rpm |
| Nivel de Vacío | 10–30 Pa |
El gas de proceso se energiza y se convierte en un plasma reactivo que contiene iones, electrones y radicales.
Las especies de plasma energéticas interactúan con las moléculas de la superficie y los contaminantes bajo condiciones de vacío controladas.
Los iones y radicales reactivos descomponen los residuos orgánicos y los contaminantes de la superficie mediante reacciones químicas controladas.
Los productos de la reacción se convierten en compuestos volátiles y pasan a la fase gaseosa.
Los subproductos gaseosos se desorben de la superficie y se evacuan, dejando una superficie de material limpia y activada.
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Rogatus ad ultimum admissusque in consistorium ambage nulla praegressa inconsiderate
