El RD-200 es un sistema de plasma de tambor de vacío de gran capacidad diseñado para el procesamiento superficial por lotes de componentes complejos y voluminosos. Equipado con una cámara rotatoria de 200L, potencia de plasma controlada y gestión precisa del flujo de gas, permite un tratamiento estable y repetible para la producción a escala industrial.
| Nombre del Producto | Limpiador de Plasma de Tambor de Vacío |
| Modelo | RD-200 |
| Sistema de Control | PLC + Pantalla Táctil |
| Frecuencia de Plasma | 40 kHz |
| Fuente de Alimentación | AC380V (±10V) |
| Potencia de Plasma (ajustable) | 1–5 kW |
| Canales de Gas | 2 canales con controlador de flujo másico (MFC) |
| Modos de Control de Proceso | Automático y Manual |
| Tamaño de la Cámara (mm) | Φ610 × 700 mm |
| Dimensiones del Gabinete (L×A×A mm) | 870 × 740 × 1540 mm |
| Volumen de la Cámara | 200 L |
| Velocidad de Rotación del Tambor | 1–10 vueltas/min |
| Nivel de Vacío | 10 Pa |
El gas de proceso se energiza y se convierte en un plasma reactivo que contiene iones, electrones y radicales.
Las especies de plasma energético interactúan con las moléculas de la superficie y los contaminantes bajo condiciones de vacío controladas.
Los iones reactivos y radicales descomponen los residuos orgánicos y contaminantes superficiales mediante reacciones químicas controladas.
Los productos de la reacción se convierten en compuestos volátiles y pasan a la fase gaseosa.
Los subproductos gaseosos se desorben de la superficie y se evacuan, dejando una superficie de material limpia y activada.
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Rogatus ad ultimum admissusque in consistorium ambage nulla praegressa inconsiderate
