Un sistema de limpieza por plasma al vacío de 125L que cuenta con control PLC con pantalla táctil, una cámara personalizable de acero inoxidable o aluminio, potencia RF de doble frecuencia (40 kHz / 13.56 MHz) y un entorno de vacío de 10 Pa para procesamiento de grandes lotes y aplicaciones de investigación.
| Nombre del Producto | Limpiador de Plasma al Vacío |
| Modelo | GD-125 |
| Sistema de Control | PLC + Pantalla Táctil |
| Frecuencia de Potencia | 40 kHz / 13.56 MHz |
| Tensión de Alimentación | AC 380V (±10V) |
| Potencia Nominal | 1000 W (ajustable) |
| Canales de Gas | Control de flujo con válvula proporcional de 2 canales |
| Control de Proceso | Modos Automático y Manual |
| Tamaño Interior de la Cámara | 500 × 500 × 500 mm |
| Material de la Cámara | Acero inoxidable o Aluminio (opcional) |
| Especificaciones del Portador/Bastidor | W465 × D425 mm, 8 capas estándar |
| Dimensiones Totales | 1350 × 1290 × 1860 mm (L × A × A) |
| Volumen de la Cámara | 125 L |
| Nivel de Vacío | 10 Pa |
| Gases Compatibles | Argón, Oxígeno, Nitrógeno, Aire, H2+N2 (mezclado), etc. |
El gas de proceso se energiza y se convierte en un plasma reactivo que contiene iones, electrones y radicales.
Las especies de plasma energéticas interactúan con las moléculas de la superficie y los contaminantes en condiciones de vacío controladas.
Los iones y radicales reactivos descomponen los residuos orgánicos y los contaminantes de la superficie mediante reacciones químicas controladas.
Los productos de la reacción se convierten en compuestos volátiles y pasan a la fase gaseosa.
Los subproductos gaseosos se desorben de la superficie y se evacuan, dejando una superficie de material limpia y activada.
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Rogatus ad ultimum admissusque in consistorium ambage nulla praegressa inconsiderate
